PN结与PIN结的区别及PIN结二极管结构-KIA MOS管
PIN结二极管结构
在电子技术领域中,二极管作为一种常见的电子元件,扮演着重要的角色。普通的二极管由PN结组成。
在P和N半导体材料之间加入一薄层低掺杂的本征(Intrinsic)半导体层,组成的这种P-I-N结构的二极管就是PIN二极管,正因为有本征(Intrinsic)层的存在,PIN二极管应用很广泛,从低频到高频的应用都有,主要用在RF领域,用作RF开关和RF保护电路,也有用作光电二极管(PhotoDiode)。PIN二极管包括PIN光电二极管和PIN开关二极管。
因为PD的主要有源区是势垒区,所以展宽势垒区即可提高灵敏度。p-i-n结快恢复二极管实际上也就是人为地把p-n结的势垒区宽度加以扩展,即采用较宽的本征半导体(i)层来取代势垒区,而成为了p-i-n结。
p-i-n结快恢复二极管的有效作用区主要就是存在有电场的i型层(势垒区),则产生光生载流子的有效区域增大了,扩散的影响减弱了,并且结电容也大大减小了,所以其光检测的灵敏度和响应速度都得到了很大的提高。
因为PIN二极管的射频电阻与直流偏置电流有关,所以它可以用作为射频开关和衰减器。串联射频开关电路:当二极管正偏时,即接通(短路);当二极管零偏或者反偏时,不仅开关的最高工作频率会受到限制,最低工作频率也会受到限制,如PIN管就不能控制直流或低频信号的通断。受管子截止频率的影响,开关还有一个上限工作频率。要求开关的频带尽量宽,因为信号源的频带越来越宽。
PN结与PIN结的区别
pn结和pin结是两种最基本的器件结构,也是两种重要的二极管。从结构和导电机理上来说,它们有许多共同点,但是也存在不少的差异。
相同点:
(1)都存在空间电荷区和势垒区,则都有势垒电容;
(2)都具有单向导电性和相应的整流作用,则都可用作为二极管;
(3)在高的反向电压下,都有可能发生绝缘击穿的现象,因此都存在有最高工作电压的限制;
(4)都具有感光作用,可以作为光电二极管和光电池等光电子器件。
不同点:
(1)空间电荷区:
pn结的空间电荷区就是界面附近的区域,其中存在较强的内建电场,使得载流子往往被驱赶出去了,故一般可近似为耗尽层。
pin结的空间电荷区是在i型层(本征层)两边的界面附近处,则有两个空间电荷区(即p-i和n-i两个界面的空间电荷区),一个空间电荷区包含有正电荷,另一个空间电荷区包含有负电荷,这些空间电荷所产生的电场——内建电场的电力线就穿过i型层。
(2)势垒区:
pn结中阻挡载流子运动的区域,即存在内建电场的区域就是势垒区;pn结的势垒区也就是空间电荷区,即空间电荷区与势垒区是一致的。
但是pin结中存在内建电场的区域是整个i型层加上两边的空间电荷区,因此势垒区很宽(主要就是i型层的厚度),这时势垒区与空间电荷区并不完全一致(势垒厚度远大于空间电荷区)。
(3)势垒电容:
pn结的势垒电容也就是空间电荷区的电容,而空间电荷区的厚度与外加电压有关,则势垒电容是一种非线性电容;并且pn结的势垒电容也与两边半导体的掺杂浓度和温度有关(掺杂浓度越大,或者温度越高,势垒厚度就越小,则电容也就越大)。
但是pin结的势垒电容基本上就是i型层的电容,因此该势垒电容是一种线性电容;并且pin结的势垒电容与两边半导体的掺杂浓度和温度基本上没有什么关系。由于i型层较厚,则pin结的势垒电容很小,因此可用作为微波二极管。
(4)导电机理:
pn结的电流主要是注入到势垒区两边扩散区中少数载流子的扩散电流,这就意味着:通过pn结的电流是少数载流子扩散电流,并且少数载流子的扩散是在势垒区以外的扩散区中进行的。而势垒区的影响只是其中复合中心提供少量的复合-产生电流(只在低电压时起重要作用)。
但是pin结的电流主要是较宽的势垒区(~i型层)中的复合电流。因此在通过的电流的性质上,与一般pn结的大不相同。虽然它们的伏安特性基本上都是指数式上升的曲线关系,但是上升的速度却有一定的差别,pin结的正向伏安特性曲线上升得稍慢一点。
(5)工作电压:
pn结的势垒厚度一般较薄,并且电场在pn结界面处最大,则容易发生雪崩击穿,从而承受的反向电压有限。
但是pin结的势垒厚度很大(~i型层),并且电场在i型层中的分布基本上是均匀的,则不容易发生雪崩击穿,能够承受很大的反向电压,从而pin结二极管可用作为高电压大功率器件。
(6)感光(探测)灵敏度:
作为光电子器件(光电二极管、红外探测器、太阳电池等)使用时,感光(探测)灵敏度主要决定于势垒区的宽度。
pn结因为势垒厚度较薄,则感光灵敏度较小。
但是pin结由于它的势垒厚度很大(~i型层),则能够吸收大量的光子、并转换为载流子——光生载流子,所以感光和探测辐射的灵敏度很高。
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