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mos管结电容,结电容对电路的影响-KIA MOS管

信息来源:本站 日期:2025-04-10 

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mos管结电容,结电容对电路的影响-KIA MOS管


mos管结电容

MOS管的结电容是器件内部因半导体结构形成的寄生电容。

主要包括:

栅源电容(Cgs):栅极与源极之间的电容,影响开启/关断速度。

栅漏电容(Cgd,又称米勒电容):栅极与漏极之间的电容,开关过程中因米勒效应会显著延长过渡时间。

漏源电容(Cds):漏极与源极之间的电容,与体二极管特性相关。

这些电容的容值并非固定,而是随Vds电压非线性变化,尤其在功率MOSFET中更为明显。


mos管结电容的形成

MOS管结电容,是MOS管在极化时,于栅极与漏极/源极间形成的、能存储电荷的电容。它作为MOS管的关键参数,对管子的动态功耗、响应速度等特性有着决定性影响,尤其在高频应用中,其表现尤为关键。


势垒电容:功率半导体中,当N型和P型半导体结合后,由于浓度差导致N型半导体的电子会有部分扩散到P型半导体的空穴中,因此在结合面处的两侧会形成空间电荷区(该空间电荷区形成的电场会阻值扩散运动进行,最终使扩散运动达到平衡)。


扩散电容:当外加正向电压时,靠近耗尽层交界面的非平衡少子浓度高,远离非平衡少子浓度低,且浓度自高到底逐渐衰减直到0。当外加正向电压增大时,非平衡少子的浓度增大且浓度梯度也增大,外加电压减小时,变化相反。该现象中电荷积累和释放的过程与电容器充放电过程相同,称为扩散电容。


寄生电容结构

MOS管寄生电容结构如下,其中,多晶硅宽度、沟道与沟槽宽度、G极氧化层厚度、PN结掺杂轮廓等都是影响寄生电容的因素。

mos管结电容

mos管结电容

根据MOS管规格书中对三个电容的定义可以知道:

Ciss = Cgs + Cgd ;

Coss = Cds + Cgd;

Crss = Cgd;

因此可以得到MOS管单独三个引脚之间的电容Cgs栅源电容、Cgd栅漏电容、Cds漏源电容。Cds漏源电容又叫米勒电容。


mos管结电容对电路的影响

开关时间和开关损耗:

输入电容(Ciss)影响开关时间和开关损耗。较大的输入电容会导致开关时间延长,增加开关损耗,从而影响电路的效率和稳定性。


谐振现象:

输出电容(Coss)可能导致谐振现象。在开关过程中,输出电容会充电和放电,如果处理不当,可能会引起电路的谐振,影响电路的稳定性和可靠性。


自激振荡:

反向传输电容(Crss)影响关断延时,并可能引起自激振荡。自激振荡会导致电路无法正常工作,甚至损坏器件。


漏电流增加:

寄生电容的存在会导致漏电流增加,特别是在高频工作条件下。这会影响MOSFET的功耗和效率。


响应时间缩短和信号延迟增加:

寄生电容会储存电荷,导致MOSFET的响应时间缩短,但也可能导致信号延迟增加和输出波形失真。


功耗增加:

由于寄生电容会储存电荷并在切换过程中释放,这会导致MOSFET的功耗增加,特别是在高频应用中更为明显。


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